VEGA VEGADIF 65 Profibus PA Manuale d'uso
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11 Appendice
VEGADIF 65 • Profibus PA
36129-IT
-130507
Materiale della membrana
Campo di misura
Total Error
316L, alloy, oro-rodio
< 500 mbar
0,33 % del valore finale del campo
di misura/anno
da 500 mbar
0,20 % del valore finale del campo
di misura
Tantalio
< 500 mbar
0,48 % del valore finale del campo
di misura/anno
da 500 mbar
0,35 % del valore finale del campo
di misura/anno
Termpo di riscaldamento - tutte le esecuzioni
Tempo di riscaldo
≤ 10 s
Stabilità di deriva di zero (conformemente a DIN 16086 e IEC 60770-1)
Vale per interfacce digitali (HART, Profibus PA, Foundation Fieldbus), nonché per l'uscita in cor-
rente analogica 4 … 20 mA. I dati si riferiscono al valore finale del campo di misura.
Campi di misura
1 anno
5 anni
10 mbar, 100 mbar
±0,18%
-
500 mbar, 3 bar, 16 bar
±0,05 %
±0,125%
Condizioni ambientali
Temperatura ambiente, di stoccaggio e di trasporto
Ʋ Esecuzione standard
-40 … +80 °C (-40 … +176 °F)
Ʋ Esecuzione per applicazioni su
ossigeno
19)
-40 … +60 °C (-40 … +140 °F)
Ʋ Esecuzioni IP 66/IP 68, (1 bar) con
cavo di collegamento PE
-20 … +60 °C (-4 … +140 °F)
Ʋ Esecuzioni IP 66/IP 68, (1 bar) e
IP 68, cavo di collegamento PUR
-20 … +80 °C (-4 … +176 °F)
Condizioni di processo
I dati relativi a pressione e temperatura sono indicativi. In linea di principio, la pressione massima
per il trasduttore di pressione dipende dall'elemento più debole in termini di pressione. Valgono di
volta in volta le indicazioni della targhetta d'identificazione.
Limiti della temperatura di processo
I dati valgono per l'esecuzione base e per il lato negativo dell'esecuzione con sistema di separazio-
ne applicato su un lato
20)
Ʋ Con celle di misura PN 420
limite inferiore di temperatura di applicazione -10 °C
(+14 °F).
Ʋ Con tubi di raccordo più lunghi di
100 mm
-40 … +120 °C (-40 … +248 °F)
Ʋ Con tubi di raccordo più lunghi
100 mm, attacco di processo C22.8
-40 … +120 °C (-40 … +248 °F)
I dati valgono per sistemi di separazione adeguati
19)
fino a 60 °C (140 °F).
20)
Nell'esecuzione per applicazioni su ossigeno, attenersi al capitolo "Applicazioni su ossigeno".